Sirvides Autor "Reiman, Veiko" järgi

Näitamisel1 - 1 1-st
  • Pisipilt
    NimetusPiiratud juurdepääs
    Eesti Kaitseväe sõidukite moondamisvärvimise juhendi uuendamine
    (Tallinna Tehnikakõrgkool, 2021-05-10) Reiman, Veiko; Vennikas, Henri
    Töö eesmärk oli koostada Eesti Kaitseväele rivisõidukite moondamisvärvimise juhend, mis peab sisaldama nõudeid värvkattele ja värvitööde kvaliteedile. Töö käigus analüüsiti kehtivat rivisõidukite moondamisvärvimise juhendit. Toodi välja, et praegu kehtiv dokument kirjeldab töökäiku, -vahendeid ja -aega. Töökäik on ajakohane, kuid kirjeldab tegevusi, mis on automaalritele tuttavad ja sellest tulenevat ei ole otstarbekas Eesti Kaitseväe juhendis kirjeldada. Juhendis välja toodud materjalid on 2008. aasta koostööpartneri, AP Trading AS, poolt pakutavad. Praeguseks sama partneriga koostööd ei tehta ja kirjeldatud materjale enam ei kasutata. Sõidukipargi vananemise tulemusena on keretöödele kuluv tööaeg pikenenud. Iga aastaga vananeb sõidukipark, seetõttu pole normtööaegade kehtestamine enam otstarbekas. Teises peatükis kirjeldati STANAG 4360 nõudeid värvimisele ja värvidele. Need on kirjeldatud läbi ISO standardsete katsete, mis jagunevad visuaalsete omaduste katseteks, vastupidavuse katseteks mehhaanilistele vigastustele ja vastupidavuse katseteks keemilistele muutustele. Töö käigus analüüsiti dokumenti „Sõiduautode värvimise kvaliteedinormid,“ mis kirjeldab avalikus sektoris kasutatavaid norme sõidukite värvimisel. Sõiduki pinnad on jagatud nelja klassi vastavalt sellele, kui nähtav on pind. Kirjeldatud on 22 värvitöö defekti, millele on toodud välja iga pinna klassi lubatud ulatus. Koostatud juhend sisaldab samasi nõudeid kasutatavatele värvidele nagu STANAG 4360. Rivisõidukite pinnad on jagatud nelja pinnaklassi ning on esitatud 20 värvitööde defekti ja nende lubatud ulatused igal pinnaklassil. Kolmandas peatükis on kirjeldatatud erinevaid sõidukite maskeerimismustreid ja demonstreeriti, kuidas on võimalik tabelarvutusprogrammiga kiiresti luua sarnaseid maskeerimismustreid. Tulevikus saab täiustada digitaalse maskeerimismustri loomise programmi ja selgitada välja optimaalne piksli suuruse.